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高性能電子絕緣薄膜用六方氮化硼在吉安納樸材料實現穩定批量生產
信息來源：本站 | 發布日期： 2022-11-01 16:06:45 | 瀏覽量：663666
高性能電子絕緣用薄膜通常是指厚度小于25-125μm的高分子薄片材料。已工業化生產的薄膜有聚酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚酰胺亞胺薄膜、聚芳酰胺薄膜等新型薄膜。高性能電子絕緣薄膜的特點是厚度薄、質地柔軟，電氣性能、力學性能和物理化學性能好，已經廣泛應用應用于包括柔性…
高性能電子絕緣用薄膜通常是指厚度小于25-125μm的高分子薄片材料。已工業化生產的薄膜有聚酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚酰胺亞胺薄膜、聚芳酰胺薄膜等新型薄膜。高性能電子絕緣薄膜的特點是厚度薄、質地柔軟，電氣性能、力學性能和物理化學性能好，已經廣泛應用應用于包括柔性顯示、FPC、5G手機、半導體封裝等在內的高端下游領域。
通過與下游客戶的緊密配合，納樸材料近期已經實現高性能電子絕緣薄膜用途的六方氮化硼填充料的穩定批量化生產，能夠實現進口替代，并已開始供貨給相關領域客戶。
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